研 究 報 告 書

報告書名:

工業技術研究報告書
 

報告書番号:

No.36
 

報告書年度:

2007
 

研究種別:

戦略技術開発研究
 

テーマ名:

MEMSプロセス技術の開発研究(第3報)
 

副 題:


 

担当者:

佐藤 健 (研究開発センターレーザーナノテク研究室)
宮口 孝司(        〃          )
坂井 朋之(        〃          )
 

抄 録:

 微細パターン描画,スパッタリングやドライエッチングなど,これまでに蓄積してきたMEMS基本技術を応用し,新規のMEMS製品の設計・試作を進めてきた。薄膜ガスセンサでは,MEMS技術を利用し,感ガス材に貴金属触媒と微細形状を付与することにより,ガス感度を向上させた。また,光導波路では,専用CADによる設計をもとに,レジストマスクを形成し,さらにドライエッチングにより光導波路をシリコン基板上に形成した。
 

緒 言:

 MEMSは,フォトリソグラフィーに代表される半導体製造技術などを応用した微細加工技術,もしくはその製品群をいう。
この技術は,機械要素と同時に電子回路も同一チップ上に形成でき,高付加価値な微小部品の製造に有利な技術である。
現在,自動車のエアバッグに使われる加速度センサなど,各種小型センサ,携帯電話部品,インクジェットヘッドなど,様々な製品に応用が拡大している。
 本研究は,MEMSプロセスの要素技術を開発し,県内企業へ移転,普及することを目的として行ってきた。
図1は,本研究の一環で設計・試作したシリコン電子銃アレイである。シリコン基板上にクロムのマスクを形成し,等方性ドライエッチングを行うことにより,ピッチ10μm,高さ5μmの先鋭な形状を形成した。
 本研究の進め方としては,このような微細部品の設計・試作を通して,パターン形成,成膜技術,ドライエッチング技術など,MEMSの要素技術を確立し,これらをもとに新規のMEMS製品への展開を進めている。
 本報告では,昨年度から継続して検討してきた薄膜ガスセンサと光導波路について,研究の進捗を報告する。
なお,本研究を進めるにあたっては,財団法人にいがた産業創造機構のナノテク研究センター内に設置されているMEMS装置を主に利用した。
 

資 料:

MEMSプロセス技術の開発研究(第3報).pdf(約275.62 Kバイト)